MEMSウェーハを効果的に乾燥させる方法
もし、MEMSセンサーのウェーハの処理を経験したことがあるなら、その苦労はよくわかるでしょう。わずかな水分や、乾燥時の過度な機械的ストレスがあるだけで、全てのウェーハが台無しになってしまいます。熱が必要ですが、正確に制御する必要があります。
だからこそ、私たちは短波長の赤外線を利用しています。チャンバー内の空気を温めるのに時間を費やす代わりに、赤外線を直接ウェーハ表面に当てるのです。これにより、処理がより迅速かつ正確に行えます。
ハードウェアを「スマート」にする
現代の製造工場では、単にスイッチを押して何とかなるというわけにはいきません。赤外線アレイをデジタル回路に接続するのです。
このシステムの利点は、即座に反応する点です。その速さのおかげで、ウェーハ上での熱の拡散具合をリアルタイムで把握できます。このデータはPLCに送信され、ウェーハ上の各センサーが同じペースで乾燥します。推測する必要はありません。
バランスの取り方
ただし、問題もあります。必要な熱密度を得るためには、通常、高出力の石英ランプを使用します。しかし、こんなに多くのエネルギーを狭い空間に集中させると、すぐに高温になってしまいます。乾燥目標を達成するためには、反射される熱を処理するための冷却システムが非常に重要です。冷却が追いつかないと、ウェーハが変形してしまい、それは誰も望まない状況です。
古い方法を捨てる
また、古くて不便なリレーも使わなくなりました。今では、PWM（パルス幅変調）コントローラーを使って電力を制御しています。これにより、滑らかで直線的な制御が可能になります。ウェーハの厚みを変更する際も、ソフトウェアで設定を調整するだけです。プロジェクトが変わるたびにハードウェアを交換する必要はありません。これは、以前の対流方式と比べて大きな進歩です。
結局のところ、直接赤外線を利用する方法が最善です。乾燥にかかる時間が短縮され、装置の占有面積も減り、よりクリーンなウェーハが得られます。これにより、生産ラインがスムーズに動き続けます。