セル室の壁面を加熱するのはやめよう：ウェーハを効率的に加熱する方法 半導体ウェーハを加熱するとき、重要なのは、エネルギーが基板上に届くことです。装置の外殻にエネルギーが当たってはいけません。 問題は、一般的なIRランプでは熱が360度全方位に放散されるため、制御が難しいという点です。狭い空間で作業...

ウェーハの硬化処理において、適切なIR反射器を選ぶことが重要です。ウェーハを硬化させるには熱が必要ですが、その熱は正確に与えられる必要があります。しかし、単にエネルギーを基板に当ててみるだけでは不十分です。特に、クリーンで環境に優しい処理を行いたい場合はなおさらです。 そのため、私たちは高反射率の...

MEMSウェーハを効果的に乾燥させる方法 もし、MEMSセンサーのウェーハの処理を経験したことがあるなら、その苦労はよくわかるでしょう。わずかな水分や、乾燥時の過度な機械的ストレスがあるだけで、全てのウェーハが台無しになってしまいます。熱が必要ですが、正確に制御する必要があります。 だからこそ、私...

化学処理を行う際、一般的には揮発性が高く、言ってしまえば可燃性のある化学薬品を扱います。そこに高輝度の赤外線ランプを加えると、災害が起きる可能性があります。誰もが望まないのは、製造過程の最中に火災が発生することです。 それを防ぐために、私たちはオープン型の構造を使わず、すべてを封入するようにしてい...

ガラスの破片からウェーハを守る：チューブの破裂を防ぐために 高負荷の半導体製造環境では、赤外線ランプが壊れると、単なる生産停止にとどまらず、大きな問題につながります。 石英チューブが壊れると、機能しなくなるだけでなく、ウェーハの表面に微細なガラスの破片や化学物質が付着してしまいます。これは大変な問...

高負荷ウェーハ処理装置における致命的な故障の防止 一度だけライトが消えてしまうと、その瞬間に全体の処理が危険にさらされますよね？高負荷のウェーハ処理では、ライトが壊れるだけでなく、チャンバー内に汚染物質が混入し、全体的な処理がダメになってしまいます。 私たちは、このような悲劇が起こる前にそれを防ぐ...

ファブフロアにおけるレーザーダイシングは、ウェハの熱予算が変動し始めると問題が発生する。フォトレジスト残渣、微細クラック、エッジチッピングの多くは、同一の原因に起因している：ダイシングサポート下でのウェハの不安定かつ不均一な加熱である。アクティブエリア全体で±0.1℃以内の温度を維持し、かつライン...

ライン上では、バーンインオーブンが休みなく稼働している。ウェーハは熱ストレスのために順番待ちし、その後次の工程へ移る。加熱ランプに遅れが生じれば、ステーション全体が停止する。温度がずれれば歩留まりに影響が出る。バーンインにおいて、ランプは単なる部品ではなく、熱の要となる存在である。 このウェーハバ...