もう、ヒーターを待つ必要はありません。なぜUHP赤外線がホットエアより優れているのか
半導体製造に従事している人なら、最も大きな敵が技術そのものではなく、時間だということを知っているでしょう。特に、待ち時間という厄介な問題です。
長年、人々は強制送風式のシステムを利用してきましたが、問題点があります。それは熱伝達の遅さです。各サイクルごとに、部品が十分に温まるのを待つために数分もの時間が無駄になってしまいます。だからこそ、私たちは超高純度のUHP赤外線ランプを採用しました。熱風を送る代わりに放射能を利用することで、その遅延を解消しようとしたのです。
物理的な原理
ホットエアの仕組みを考えてみてください。まず空気を加熱し、その空気がチャンバーを温め、最終的にチャンバーがウェーハを温めます。これはゆっくりと進む連鎖反応です。
しかし、UHPランプはそうではありません。短波放射を直接表面に当てるのです。そうすることで、温度上昇にかかる時間が数分から数秒にまで短縮されます。つまり、プロセスのタイミングを厳密にコントロールし、より多くの量を処理できるのです。
材料に関する注意点
クリーンルームである以上、汚染は許されません。そのため、このランプには高純度の合成石英を使用しています。そうすることで、ガス放出による不良品の発生を防げます。
ただし、非常に小さな空間に多くのエネルギーが込められているため、冷却装置が十分でないと問題が発生します。例えば、装置が変形したり、ランプが壊れたりする可能性があります。必ず、冷却装置がその熱に対応できるようにしてください。
実際の効果
最も良い点は、巨大なダクトや騒音の大きいファンを不要にできることです。機械の占有面積が縮小され、それは明らかな利点です。
これは単純な交換に過ぎません。遅くて面倒な対流式ヒーターの代わりに、迅速でコントロール可能な加熱方式を使うのです。生産能力を向上させたいと考えている工場にとって、これが最適な方法です。