Sécher les wafer MEMS sans problèmes
Si vous avez déjà eu affaire à des wafer de capteurs MEMS, vous savez à quel point c’est compliqué. Un petit point d’eau ou une pression mécanique excessive pendant le séchage suffisent pour ruiner toute la série de wafer. Il faut donc de la chaleur, mais il est essentiel que cette chaleur soit appliquée de manière précise.
C’est pourquoi nous utilisons des rayons infrarouges à courte longueur d’onde. Au lieu de gaspiller du temps en chauffant l’air dans toute la chambre, les rayons infrarouges transmettent directement leur énergie à la surface du wafer. C’est plus efficace, plus rapide, et c’est simplement la meilleure solution.
Rendre le matériel “intelligent”
Dans une usine moderne, on ne se contente pas d’allumer un interrupteur en espérant le meilleur. Nous connectons les systèmes à base de rayons infrarouges à un circuit numérique. La beauté de ces systèmes réside dans leur capacité à réagir rapidement : ils augmentent ou diminuent leur intensité en quelques instants. Grâce à cette vitesse, nous pouvons suivre en temps réel comment la chaleur se répartit sur le wafer. Ces données sont envoyées directement au PLC, ce qui permet à chaque capteur de sécher au même rythme. Pas de suppositions nécessaires.
L’équilibre à trouver
Il y a cependant un problème : pour obtenir la densité de chaleur nécessaire, nous devons utiliser des lampes en quartz à forte puissance. Mais le problème, c’est que lorsque tant de puissance est concentrée dans un espace restreint, la température monte très vite. Si vous voulez atteindre les objectifs de séchage, le système de refroidissement doit être exceptionnel pour gérer cette chaleur. Sinon, les wafer risquent d’être endommagés, ce qui est un cauchemar pour tout le monde.
Abandonner les anciennes méthodes
Nous avons également abandonné ces vieux relais encombrants. Aujourd’hui, nous utilisons des contrôleurs PWM (modulation de largeur d’impulsion) pour gérer l’énergie. Cela permet une commande plus précise et linéaire. Si vous changez l’épaisseur du wafer, il suffit de modifier les paramètres dans le logiciel. Vous n’avez pas besoin de remplacer le matériel à chaque fois que le projet change. C’est bien mieux que ces anciennes méthodes de convection, qui prenaient beaucoup de temps et ne donnaient aucune information sur ce qui se passait réellement à l’intérieur.
En fin de compte, les rayons infrarouges directs sont simplement la meilleure solution. Les cycles de séchage sont plus courts, l’équipement occupe moins d’espace, et les wafer sont mieux séchés. Cela permet à la production de continuer sans interruption.