Trong quy trình sản xuất wafer, yếu tố quan trọng không chỉ là nhiệt độ mà còn là mức nhiệt tổng thể trong suốt quá trình xử lý. Nếu nhiệt độ tăng hoặc giảm 2°C, việc kiểm soát các thông số kỹ thuật sẽ trở nên khó khăn hơn; đồng thời, điều này cũng dẫn đến việc phải làm lại sản phẩm, gây lãng phí nguyên vật liệu và giảm hiệu suất sản xuất. Chúng tôi thiết kế các bộ sưởi công nghiệp dựa trên nguyên tắc này: duy trì độ đồng đều về nhiệt độ ở mức ±0,1°C, từ lần xử lý này sang lần xử lý khác, trên toàn bộ số wafer được xử lý.
Những yếu tố quan trọng về mặt kỹ thuật
Chúng tôi sử dụng phương pháp sưởi bằng tia hồng ngoại tần số cao, với khả năng phản ứng nhanh và kiểm soát chặt chẽ. Nhờ đó, chúng tôi có thể đạt được mức nhiệt mong muốn trong vài giây. Vùng sưởi được cách ly bằng thủy tinh thạch anh, giúp loại bỏ hoàn toàn các hạt bụi, giữ cho mức độ bụi trong phòng sạch ở mức 1–100. Độ ổn định của nhiệt độ được duy trì qua các lần xử lý, giúp tránh những sai số không mong muốn trong quá trình xử lý wafer. Chúng tôi cũng điều chỉnh công suất sưởi sao cho phù hợp với khối lượng nhiệt của wafer – như vậy sẽ tránh được việc dư thừa năng lượng.
Tại sao phương pháp này hiệu quả trong quy trình lithography
Trong quy trình lithography, bộ sưởi cần phải duy trì nhiệt độ ổn định trong suốt quá trình xử lý. Hệ thống của chúng tôi giúp duy trì độ ổn định của nhiệt độ 24/7, giúp giảm thiểu lượng sản phẩm bị hỏng do sai số nhiệt độ. Kết quả là hiệu suất sản xuất tăng lên, và số lần phải làm lại sản phẩm giảm đi. Việc bảo trì cũng trở nên dễ dàng hơn, vì các thành phần trong vùng sưởi ít chịu tác động từ những biến đổi nhiệt độ.
Những điều cần lưu ý khi lên kế hoạch
Các bộ sưởi này có thể được tích hợp với các thiết bị sản xuất chip tiêu chuẩn, nhưng mức nhiệt độ vẫn phụ thuộc vào loại khay đựng wafer, độ dày của wafer, và loại khí được sử dụng trong quy trình xử lý. Bạn cần tiến hành các thử nghiệm ban đầu để xác định tốc độ tăng nhiệt và thời gian xử lý phù hợp với quy trình của mình. Một khi đã thiết lập xong, bạn có thể giữ nguyên thiết lập đó – bởi trong quy trình sản xuất wafer, tính lặp lại chính là yếu tố quyết định hiệu suất sản xuất.