<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Kuarsa on Efficient Indoor IR Heating</title>
		<link>http://indoor-ir-heat.com/ms/tags/kuarsa/</link>
		<description>Recent content in Kuarsa on Efficient Indoor IR Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 21 Jun 2026 06:27:47 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://indoor-ir-heat.com/ms/tags/kuarsa/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu kuarsa inframerah untuk wafer</title>
				<link>http://indoor-ir-heat.com/ms/posts/infrared-quartz-lamp-for-wafer/</link>
				<pubDate>Sun, 21 Jun 2026 06:27:47 +0800</pubDate>
				<guid>http://indoor-ir-heat.com/ms/posts/infrared-quartz-lamp-for-wafer/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://indoor-ir-heat.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Lampu kuarsa inframerah untuk wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik pengeluaran semikonduktor, seseorang akan menyedari &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;dengan&lt;/a&gt; cepat bahawa perubahan suhu sebanyak 0.5°C sahaja sudah cukup untuk merosakkan kualiti fotoresist yang digunakan dalam proses pembuatan semikonduktor. Lampu kuarsa inframerah bukan sekadar sumber haba sahaja; ia juga berfungsi sebagai alat untuk mengawal suhu semasa proses litografi dan pemprosesan fotoresist. Kami membina lampu-lampu ini sedemikian rupa agar suhu dapat &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;dikawal&lt;/a&gt; pada tahap ±0.1°C, agar dimensi penting dalam proses pembuatan semikonduktor tetap berada dalam lingkungan yang ditetapkan.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dari segi teknikalnya:&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Lampu kuarsa inframerah gelombang pendek mampu memberikan tenaga yang efektif kepada fotoresist, tanpa merosakkan lapisan di bawahnya. Reflektor yang terdapat pada lampu tersebut memastikan pengagihan tenaga yang seragam, sehingga kontur permukaan fotoresist tetap stabil. Dengan cara ini, profil pemanasan yang digunakan dapat dikawal dengan ketepatan ±0.5%.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
