Pabrik pemanas wafer industri

Fri, 03 Jul 2026 09:01:32 +0800

Di pabrik pengolahan wafer, “suhu pembakaran” bukan sekadar angka saja. Sebenarnya, yang penting adalah keseimbangan termal yang mempengaruhi kualitas proses produksi. Jika suhu pembakaran naik atau turun sebesar 2°C, maka akan timbul masalah dalam pengendalian dimensi komponen, serta peningkatan biaya perbaikan dan kerugian produksi. Kami merancang pemanas wafer industri kami berdasarkan prinsip tersebut: menjaga konsistensi suhu di tingkat wafer pada kisaran ±0,1°C, dari siklus ke siklus, di seluruh batch produksi.

Yang penting secara teknis
Kami menggunakan sistem pemanasan inframerah gelombang pendek yang memiliki respons cepat dan kontrol loop tertutup yang ketat, sehingga titik suhu yang diinginkan dapat dicapai dalam hitungan detik. Zona panas dibuat sedemikian rupa sehingga tidak menghasilkan partikel apa pun, sehingga jumlah partikel di ruang bersih tetap berada dalam kisaran Class 1–100. Profil suhu tetap konsisten dari satu siklus ke siklus lainnya, sehingga perilaku lebar garis fotoresist tidak akan menimbulkan masalah. Selain itu, daya yang digunakan disesuaikan dengan massa termal bahan pembawa wafer, sehingga tidak ada overshot atau pemborosan energi.

Industri on Efficient Indoor IR Heating

Pabrik pemanas wafer industri