Nahinfrarot (NIR) Strahlerlampe

Tue, 02 Jun 2026 06:11:24 +0800

Auf dem Fertigungsboden führt eine Drift von 0,5°C während des Photoresist-Backens bereits dazu, dass große Mengen Ausschuss entstehen. Die Wärme muss genau dort ankommen, wo es die Prozesskarte vorgibt – Lauf für Lauf.

Was unter der Haube zählt
Unsere NIR-Emitterlampe erzeugt kurzwellige Energie, die schnell anspricht und spektral stabil bleibt, sodass Temperaturwechsel schnell und reproduzierbar sind. Über die Backzone hinweg hält die Wafer-Ebenen-Uniformität bei ±0,1°C – eine Steuerung, die kritische Abmessungen in der Lithografie schützt. Der Emitter selbst ist Reinraum-kompatibel, so konstruiert, dass die Partikelgenerierung gering bleibt, und liefert über Tausende von Stunden stabile Leistung. In der Praxis bedeutet das weniger verschwendetes thermisches Budget, weniger Defekte und Zykluszeiten, auf die man sich verlassen kann.

Glühbirne on Efficient Indoor IR Heating

Nahinfrarot (NIR) Strahlerlampe