Litografi sürecinde, interpozeryi ısıtırken meydana gelen 0,1°C’lik bir sıcaklık değişimi bile kritik boyut kontrolünü bozmaya yetiyor ve böylece fotoresistlerin heba olmasına neden oluyor. Daha fazla güç kullanmak çözüm değildir. İhtiyacınız olan şey, her seferinde güvenilir şekilde kontrol edilebilen bir ısıdır.
Arka plandaki önemli unsurlar
Interpozeryi ısıtmak için kullandığımız kızılötesi lambalar, temiz ve hızlı enerji aktarımı sağlayacak şekilde tasarlanmıştır. Maksimum güç, cihazın özelliklerine göre ayarlanmıştır; ayrıca interpozeryüzeyindeki sıcaklık ±0,1°C civarında sabit kalır. Bu tasarım sayesinde termal gecikme minimum düzeyde tutulur; böylece ayar noktaları aşırı değerlere ulaşmadan sabit kalır. Eşitlik ise tahmin edilmek yerine ölçülerek sağlanır.
Bu teknolojinin wafer seviyesindeki işlemlerdeki avantajları
Isıtma süresi oldukça kısıtlıdır. Bu lamba, fotoresistin yumuşak ve sert ısıtma işlemlerini tekrarlanabilir şekilde gerçekleştirir. Temiz oda standartlarına uygunluk, malzemelerin ve hava akışının yapısından dolayı sağlanır; böylece partikül sayısı düşük kalır. Enerji tüketimi azalır çünkü lamba elektriği verimli bir şekilde ısıya dönüştürür ve termal kütle küçük olduğundan boşta kalındığında da enerji tüketimi düşüktür. Lamba, belirlenen aralıklarda 24/7 çalıştığı için sürekli çalışma süresi artar ve beklenmedik arızalar ortadan kalkar.
Doğru şekilde uygulanması gereken pratik detaylar
Montaj sırasında cihazın termal kapasitesine ve görüş alanına dikkat edilmelidir. Lamba, interpozer yoluna doğru hizalanıp belirlenen sensör ve kontrol cihazlarıyla birlikte kullanıldığında maksimum performans elde edilir. PID ayarlarının yapılması ve substratın farklı bölgelerindeki emisyon değerlerinin ölçülmesi için kısa bir test süreci gereklidir. Kalibre edildikten sonra işlem tekrarlanabilir hale gelir. Ancak istenen stabilite ancak bu başlangıç ayarlarıyla sağlanabilir.