Op de lithografieafdeling is een temperatuurstijging van 0,1°C tijdens het opwarmen van de interposer al voldoende om de controle over de belangrijke dimensies te verstoren. Hierdoor wordt de gebruikte fotorezyst verspild. Meer vermogen is dan ook niet de oplossing. Wat nodig is, is warmte die goed kan worden gereguleerd en waarop men kan rekenen, run na run.
Wat er echt toe doet We hebben de infraroodlamp voor het opwarmen van de interposer ontworpen met behulp van korte-golflengte-emitters in een kwartsomhulsel. Hierdoor vindt er een schone en snelle energietransfer plaats. De piekvermogen is afgestemd op de behoeften van het apparaat, zodat er een snelle respons is en de temperatuur stabiel blijft bij ±0,1°C over het hele oppervlak van de interposer. Hierdoor blijft de thermische vertraging laag, zodat de ingestelde temperatuur nauwkeurig wordt gehandhaafd. De uniformiteit van de temperatuur wordt nauwkeurig gemeten en gecompenseerd.
Waarom dit belangrijk is bij het verwerken van wafers De tijd die beschikbaar is voor het opwarmen van de wafers is beperkt. Deze lamp zorgt ervoor dat de fotorezyst op de juiste manier wordt opgewarmd, met een hoge herhaalbaarheid. De materialen en de luchtcirculatie zijn zo ontworpen dat er weinig deeltjes in de ruimte aanwezig zijn. De energieverbruik neemt af, omdat de emitter elektriciteit efficiënt omzet in stralingswarmte. Bovendien is de thermische massa klein, waardoor het energieverbruik in rust laag blijft. De beschikbaarheid van het apparaat neemt toe, omdat de lamp 24/7 kan werken, zonder dat er plotselinge storingen optreden.
Praktische details die belangrijk zijn Voor een goede installatie moet men rekening houden met de thermische behoeften van het apparaat en de bewerkingsruimte. Er wordt maximale prestatie bereikt wanneer de lamp goed is gealigneerd met het pad van de interposer en wanneer deze wordt gecombineerd met de juiste sensoren en controllers. Er is een korte kalibratietermijn nodig om de PID-instellingen af te stemmen en de emissiviteit over het oppervlak van de substraat te bepalen. Eenmaal gekalibreerd, is het proces herhaalbaar. Maar juist bij deze eerste instellingen ligt de sleutel tot de benodigde stabiliteit.