Mengeringkan Wafer MEMS Tanpa Masalah
Jika anda pernah berurusan dengan wafer sensor MEMS, anda pasti tahu betapa sukarnya proses tersebut. Sedikit saja titik air atau tekanan mekanikal yang berlebihan semasa proses pengeringan boleh merosakkan keseluruhan wafer tersebut. Kita memerlukan haba, tetapi ia perlu diberikan secara tepat.
Itulah sebabnya kita menggunakan sinar inframerah gelombang pendek. Daripada membuang masa untuk memanaskan udara di dalam bilik kawalan, sinar inframerah akan menyampaikan tenaga secara langsung ke permukaan wafer. Cara ini lebih efisien dan cepat.
Membuat Peranti Lebih “Cerdas”
Dalam kilang moden, kita tidak sekadar menekan suis dan berharap segalanya akan berjalan lancar. Kita menghubungkan sistem IR kepada litar digital. Kelebihan sistem ini ialah ia dapat bertindak balas dengan cepat. Dengan kelajuan ini, kita dapat mengetahui bagaimana haba merebak di permukaan wafer secara masa nyata. Data tersebut akan dikirim kembali ke PLC, supaya setiap sensor pada wafer dapat dikeringkan pada kadar yang sama. Tiada lagi keraguan.
Keseimbangan yang Diperlukan
Namun, ada cabarannya. Untuk mencapai kepadatan haba yang diperlukan, kita biasanya menggunakan lampu kuarsa berkuasa tinggi. Namun, apabila begitu banyak tenaga digunakan dalam ruang yang sempit, suhu akan meningkat dengan cepat. Jika sistem penyejukan tidak cukup efektif, wafer akan rosak.
Melupakan Cara Lama
Kita juga sudah meninggalkan kaedah lama yang rumit itu. Sekarang, kita menggunakan pengawal PWM (Pulse Width Modulation) untuk menguruskan tenaga. Ini membolehkan pengawalan yang lebih tepat. Jika ketebalan wafer berubah, kita hanya perlu mengubah tetapan dalam perisian sahaja. Tidak perlu menukar peralatan setiap kali projek berubah. Ini merupakan penyelesaian yang lebih baik berbanding kaedah konveksi lama yang memerlukan masa yang lama dan tidak memberikan informasi yang jelas tentang apa yang sedang berlaku di dalamnya.
Pada akhirnya, penggunaan sinar inframerah gelombang pendek adalah cara yang terbaik. Proses pengeringan menjadi lebih cepat, peralatan yang digunakan juga lebih efisien, dan wafer yang dihasilkan lebih bersih. Semua ini membantu memastikan proses pengeluaran berjalan lancar.